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真空镀膜技术最初源于20世纪60年代末期,当时主要应用于半导体行业中的金属化工艺。目前,真空镀膜设备已经分为多种类型,包括磁控溅射、电弧离子镀、分子束蒸发等。同时,也发展出了多种特殊真空镀膜技术,例如磁控反应蒸发、磁控溅射沉积、离子束沉积等。具体而言,真空镀膜技术是通过高速粒子的撞击将材料从源头中蒸发或溅射到基底表面的... 【详情+】
真空镀膜技术最初源于20世纪60年代末期,当时主要应用于半导体行业中的金属化工艺。目前,真空镀膜设备已经分为多种类型,包括磁控溅射、电弧离子镀、分子束蒸发等。同时,也发展出了多种特殊真空镀膜技术,例如磁控反应蒸发、磁控溅射沉积、离子束沉积等。具体而言,真空镀膜技术是通过高速粒子的撞击将材料从源头中蒸发或溅射到基底表面的... 【详情+】
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