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真空CDLC膜层特点、应用及局限性
来源: | 发布日期:2021-11-15

真空CDLC膜层又称类金刚石膜层,其原理是属于PVD联合化学气相沉积的过程,是利用气态物质通过化学反应在基片表面形成固态薄膜的一种成膜技术。

真空CDLC膜层沉积的三个阶段:1)反应气体向基体表面扩散  2)反应气体吸附于基体表面 3)在基体表面上发生化学反应形成固态沉积物及产生的气相副产物脱离基体表面。

真空CDLC膜层

CDLC成膜的过程:反应气体(C2H2)在等离子体作用下发生离子化,形成激发态的活性C基团,这些活性C基团通过扩散到达基片表面,完成薄膜生长。

CDLC对比普通PVD工艺,它的膜层硬度可达1500HV以上,膜层的厚度一般在2微米以上,较低的耐摩擦系数和抗刮花能力是它以装饰膜和功能膜被广泛应用在智能穿戴手表及传统手表配件上的重要因素。

当然真空CDLC膜层也有它的局限性,其一就是镀膜工艺复杂,所以成本较高;其二是颜色比较局限,L值一般在40以上,所以外观装饰上,比较单调。

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