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磁控溅射镀膜技术的优点
来源: | 发布日期:2022-01-18

磁控溅射来自于辉光放电中氩离子对阴极靶材产生的阴极溅射作用。磁控溅射镀膜技术有以下几个优点:

第一,磁控溅射镀膜比电弧离子镀膜的膜层组织细密,粗大的颗粒少。

第二,膜层与基材的结合力优于真空蒸发镀膜。真空蒸发镀膜技术中,膜层原子的能量只是蒸发时携带的热能,而磁控溅射镀膜技术中膜层粒子的能量是由氩离子与靶材表层原子产生能量交换、动量互换得到的,可以提高膜层与基材的结合力;但是与阴极电弧离子镀膜技术相比,结合力还是很低的。

磁控溅射镀膜

第三,膜层的成分和靶材成分接近,磁控溅射的膜层是氩离子从靶材上溅射下来的,膜层成分与靶材成分很接近;

第四,膜层绕射性好,磁控溅射镀膜的真空度低,气体分子的自由程短,碰撞概率大,和蒸发镀膜相比,膜层粒子的散射能力强,绕射性好,膜层厚度均匀。

磁控溅射镀膜技术已经成为功能镀膜和高档装饰产品的主流技术。如果您想了解更多关于磁控溅射镀膜技术相关信息,欢迎来电咨询18018742966。

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