磁控溅射镀膜是物理气相沉积的一种，在实际运用中，如果操作不当，机器故障，就会出现“靶中毒”现象。 如：靶材电压低于正常值，溅射速度也会随之下降；靶材表面出现一层灰白色，大概率是氧化物覆盖；PVD真空炉内壁上出现了绝缘层，会导致原子到达阳极后无法进入，阳极消失；还有黑色L值30以下的膜层，而这种膜层的形成需要很高的碳元素，工艺稳定性比较差，极易出现“靶中毒”

     那如何避免及解决“靶中毒”呢？

     第一，目前较好的解决方案是采用中频磁控溅射镀膜技术，结合渐进式进气方式，可以很好的解决“靶中毒”产生的高压击穿放电，也不会出现阳极消失

     第二，控制反应气体通入速度，提前计算好靶中毒迟滞曲线，严格控制反应气体流量，防止靶材金属态到化合物状态的突变，降低膜层颜色偏红、偏绿的现象

    第四，长期放置易氧化的靶材进行处理后再溅射

    如果您想对磁控溅射镀膜有更深入的了解，欢迎来电咨询：0755-27865425