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磁控溅射镀膜-如何防止靶中毒
来源: | 发布日期:2021-12-31

        磁控溅射镀膜是物理气相沉积的一种,在实际运用中,如果操作不当,机器故障,就会出现“靶中毒”现象。 如:靶材电压低于正常值,溅射速度也会随之下降;靶材表面出现一层灰白色,大概率是氧化物覆盖;PVD真空炉内壁上出现了绝缘层,会导致原子到达阳极后无法进入,阳极消失;还有黑色L值30以下的膜层,而这种膜层的形成需要很高的碳元素,工艺稳定性比较差,极易出现“靶中毒”

磁控溅射镀膜

     那如何避免及解决“靶中毒”呢?

     第一,目前较好的解决方案是采用中频磁控溅射镀膜技术,结合渐进式进气方式,可以很好的解决“靶中毒”产生的高压击穿放电,也不会出现阳极消失

     第二,控制反应气体通入速度,提前计算好靶中毒迟滞曲线,严格控制反应气体流量,防止靶材金属态到化合物状态的突变,降低膜层颜色偏红、偏绿的现象

    第四,长期放置易氧化的靶材进行处理后再溅射

    如果您想对磁控溅射镀膜有更深入的了解,欢迎来电咨询:0755-27865425

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