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磁控溅射技术的介绍
来源: | 发布日期:2022-09-19

磁控溅射技术 与真空蒸发技术有所不同。溅射是指核能粒子轰击固体表面,使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态,常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子,离子或中性粒子,因为离子在电场下易于加速获得所需要动能,因此大都采用离子作为轰击粒子。

磁控溅射技术

溅射过程建立在辉光放电的基础上,即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电;三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电;射频溅射是利用射频辉光放电;磁控溅射技术 是利用环状磁场控制下的辉光放电。

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