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磁控溅射PVD镀膜
来源: | 发布日期:2021-09-27

磁控溅射PVD镀膜在真空炉内, Ar离子辉光放电及清洗, 由于宇宙射线的作用,在空气中任何时候都存在少量游离的离子,有带正电荷也有带负电荷的,当在较高真空状态下几帕----几十帕,如果这些游离的离子被施加一定的电压,那么带负电荷的电子受到施加电压的作用后开始加速运动,如果施加的电压足够大,这些电子将高速碰撞真空室内的中性气体Ar,并使Ar电离成Ar+,同时Ar释放出一个电子。Ar释放出的这个电子又受到电场的加速作用后又开始去碰撞Ar,使Ar又电离出Ar+。这样就可产生源源不断的电子以及源源不断的Ar+。由于货品如表带,表壳等带负偏压,所以货品就吸引Ar+,Ar+就在电场中被加速后去碰撞货品。

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磁控溅射PVD镀膜原理, 氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径变长,在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,远离靶材,最终沉积被阳极吸收。

磁控溅射PVD镀膜具有高速、低温、低损伤等优点。高速是指沉积速率快;低温和低损伤是指温度低、对膜层的损伤小。沉积粒子动能大,制备的薄膜致密度好,沉积速率高。

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