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磁控溅射中常见的问题及解决办法
来源: | 发布日期:2022-01-07

       磁控溅射是一种物理气相沉积 (PVD) 工艺,凭借细腻美观的效果和环保的特性,目前已经成为装饰性镀膜技术的主流,在手表、手机、智能穿戴、五金配饰、首饰及汽车零配件等领域得到广泛的运用。磁控溅射整个流程较长,在实际生产中会遇到一系列问题,森丰小编今天给大家分享一些磁控溅射中常见的问题及解决办法:

磁控溅射

       首先,磁控溅射出来的膜层暗淡无光泽。光泽度是许多装饰性配件必备的外观特性,因此磁控溅射中需要适当缩短溅射时间、把握好沉积时间和电流电压参数,以便获得有质感和光泽度的膜层;第二,膜层颜色不均匀,磁控溅射对工件的结构有要求,如果结构太过复杂,则很难解决颜色均匀性问题,不过可以在上架治具上下功夫来改进膜层均匀性;第三,涂层起皱、开裂,可能是因为涂层太厚,应适当缩短磁控溅射时间,或者溅射温度过高;第四,涂层表面有水圈印、指纹或者脏污,这些主要是前制程管控不到位导致的不良形态,需要在磁控溅射之前将产品清洗干净并充分干燥,做好清洗后产品的防护防止二次污染,并且保证产品处于无尘的工作环境。

      如果您想了解更多关于磁控溅射相关知识,欢迎致电18018742966

【本文标签】 磁控溅射

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