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磁控溅射真空镀的原理
来源: | 发布日期:2022-04-01

磁控溅射真空镀是物理气相沉中的一种,也是在密闭空间,真空炉内形成的膜层。它在炉体内,肉眼看不到的原子是如何运动、膜层是如何形成的呢?请接着往下看。

磁控溅射真空镀

磁控溅射真空镀在炉体内,氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子沉积在素材上形成薄膜。二次电子加速飞向素材的过程中,受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径变长,在运动过程中不断的与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,远离靶材,最终被阳极吸收在素材上形成膜层。

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