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PVD镀膜的局限性
来源: | 发布日期:2021-09-01

       PVD镀膜的原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离,在电场的作用下,使被蒸发物质或其反应产物沉积在素材上。由于采用溅射的方式,自然对一些结构特殊的货品,比如带子节缝很紧,节缝处无法溅射进去,就会有漏镀的现象;异形结构的产品,凹槽位,也无法溅射进去,也会出现漏镀及起彩的现象,这是PVD镀镆技术的局限性。

pvd镀膜

电镀产品PVD镀膜前都需要清洗,对于一些有特殊要求的产品,上架方式需要特别注意,尤其是上入炉架,要校正角度,以满足客户的的特殊需求。需电镀的货品,上清洗架,那么产品一定需要有可上挂的位置,上挂的点漏镀的位置要事先跟客户确认好,可否接受。常规壳,圈,带可采用夹盘,抻盘,挂盘都可以把产品固定在清洗架上,以确保产品在清洗槽内,超声振动也不会掉落。同样的,货品进入真容炉体内,也需要上入炉架,因真空炉体是密封的空间,为保证颜色的均匀性,货品在炉体需要转动,产品也需要有挂点,所以PVD镀膜的产品没有挂点的话,无法实现真空炉内电镀。

PVD镀膜的局限性,行业同仁也在不停的研究,在不久的将来,相信会解决的。

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