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PVD镀膜分为三个步骤
来源: | 发布日期:2022-02-09

PVD镀膜整个过程分为三个步骤:1、膜材的蒸发过程,需要确立条件:膜材料的蒸发温度,膜材蒸发的最佳蒸汽压:膜材料的蒸发速率。2、膜材料所蒸发逸出粒子的迁移,所需确立条件:在镀膜过程中,要保持真空室内的真空度一直高于10-2Pa,真空度应该是一个适宜的固定值,并不是越高越好。3、逸出的粒子到达基片表面成膜的过程,所需确立条件:适当提高蒸发速率有利于形成纯净的膜。

PVD镀膜

2、在气体中,热传导和压强成正比,热电偶真空计将这一原理运用到测量中来,真空计内有部分气体,加热的电阻丝在真空计中对气体进行加热,电阻丝会产生热量并且将热量辐射给真空计内的气体,气体的压越强高接受电阻丝的辐射热也就越多。

3、气体经过电离时被电离成带电的气体离子,能产生大量的离子流,离子流的定向移动会产生电流,通过建立电流与真空度的关系后,再对真空计中电流进行测量就能间接得到真空度,电离真空计性能很好,所以被用于超高真空的测量。如有想了解深圳PVD镀膜,欢迎致电:18018743855  0755-27865425

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