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PVD镀膜技术常用的方法
来源: | 发布日期:2022-03-11

PVD镀膜技术基本方法真空蒸发、溅射 、离子镀,小编简要介绍几种常用的方法。

首先,电子束蒸发是PVD镀膜技术的基本方法之一。电子束蒸发是利用聚焦成束的电子束来加热蒸发源,使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜。

第二,溅射沉积,溅射是与气体辉光放电相联系的一种薄膜沉积技术。PVD镀膜技术溅射的方法很多,有直流溅射、RF溅射和反应溅射等,而用得较多的是磁控溅射、中频溅射、直流溅射、RF溅射和离子束溅射。在真空室内充入放电所需要的惰性气体(如氩气),在高压电场作用下气体分子因电离而产生大量正离子。带电离子被强电场加速,便形成高能量的离子流轰击蒸发源材料(称为靶)。在离子轰击下,蒸发源材料的原子将离开固体表面,以高速度溅射到基片上并沉积成薄膜。

PVD镀膜技术

第三,RF(射频)溅射也是一种常见的PVD镀膜技术,RF溅射不仅可以沉积金属膜,而且可以沉积多种材料的绝缘介质膜,因而使用范围较广。

第四,电弧离子镀,阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积,该技术材料的离化率更高,薄膜性能更加优异。

第五,离子束也是一种重要的PVD镀膜技术。离子束加工是在真空条件下,先由电子枪产生电子束,再引入已抽成真空且充满惰性气体之电离室中,使低压惰性气体离子化。由负极引出阳离子又经加速、集束等步骤,获得具有一定速度的离子投射到材料表面,产生溅射效应和注入效应。由于离子带正电荷,其质量比电子大数千、数万倍,所以离子束比电子束具有更大的撞击动能,是靠微观的机械撞击能量来加工的。

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