PVD涂层又称为物理气相沉积技术，PVD涂层技术主要有磁控溅射镀、多弧离子镀和蒸发镀三种，是当前被广泛应用的先进表面处理技术。而这三种涂层技术各有其优缺点，磁控溅射技术是目前被应用最多的一种，主要被应用在精密配件上。今天主要来说说通过磁控溅射技术形成的表面涂层的特点：

磁控溅射镀膜的特点：1、膜层颗细小，纳米级厚度即可满足膜层装饰的要求，且持久不变色。2、镀层均匀，缓慢的沉积过程可实现高精度镀膜，膜层的致密性也更好。3、结合力好，相比传统的涂层工艺，磁控溅射镀出的膜层和基材的结合力更好，更耐磨损。4、工艺相对复杂，在生产符合膜层时，设备的配置要求更高一些。

总之，通过磁控溅射技术形成的PVD涂层其膜层的致密性更好，精度更准，结合力更强，在装饰基材的同时，能大幅提升产品的寿命，尤其是在高精密的金属配件上被广泛应用。