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PVD真空镀膜是干什么的?
来源: | 发布日期:2022-04-29

PVD真空镀膜 是在真空条件下,使金属、金属合金等蒸发,然后沉积在基体表面上,蒸发的方法常用电阻加热,电子東轰击镀料,使蒸发成气相,然后沉积在基体表面形成保护膜层。工艺主要分为真空蒸镀、磁控溅射镀膜、离子镀三种。

PVD真空镀膜

为什么需要进行真空镀膜呢?这项工艺已经成为了电子元器件制造中的一项不可或缺的技术,主要是为了使产品表面具有耐磨损耐高温,耐腐蚀等优于产品本身的性能,从而提高产品的质量,延长加工产品的使用寿命,不仅如此,还可以节约能源,获得更为显著的技术经济效益。

实际应用中,我们往往会根据产品的性质来决定选用哪种真空镀膜工艺。磁控溅射镀主要用于金属产品,蒸发镀主要用于塑胶产品,光学离子镀主要用于璃玻产品。

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