你知道PVD真空镀膜 的三种加工工艺：真空蒸镀、溅射镀和离子镀的区别在哪里吗？其区别主要如下：

1、从膜层特点看：真空蒸镀密度小但表面光滑、低温时气孔多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差；溅射密度大、气孔少、但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差；离子镀密度大，无气孔但膜层缺陷较多，附着性很好，内应力视工艺条件而定，绕射性较好。

2、从被沉积物质的气化方式看：真空蒸镀为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等；溅射镀的镀料原子不是靠加热方式蒸发，而是靠阴极溅射由靶材获得沉积原子；离子镀可以分为蒸发式或者溅射式，蒸发式为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等，溅射式由进入辉光放电空间的原子由气体提供，反应物沉积在基片上。

3、从镀膜的原理及特点看：真空蒸镀工件不带电，真空条件下金属加热蒸发沉积到工件表面，沉积粒子的能量与蒸发时的温度对应。溅射镀的工件为阳极，靶为阴极，利用氩原子的溅射作用把靶材原子击出而沉积在工件表面上，沉积原子的能量由被溅射原子的能量分布决定。离子镀的工件为阴极，蒸发源为阳极，进入辉光放电空间的金属原子离子化后奔向工件，并在工件表面沉积成膜，沉积过程中离子对基片表面、膜层与基片的界面以及膜层本身都发生轰击作用，粒子的能量决定于阴极上所加的电压。

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