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PVD真空镀膜工艺的发展原理
来源: | 发布日期:2022-11-03

PVD真空镀膜 是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理技术。

PVD真空镀膜

真空镀与传统化学镀膜方法相比,真空镀膜有很多优点:如对环境无污染,是绿色环保工艺,对操作者身体无伤害;膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强,膜厚均匀。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜技术中常使用的方法主要有:蒸发镀膜、磁控溅射镀膜等方法,其统称物理气相沉积,简称PVD。蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。磁控溅射:通过引入磁场,电子在电场的作用下,与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子,Ar离子在电场作用下高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射,溅射出的原子或分子沉积在基片上形成薄膜,就是磁控溅射镀膜。

蒸发镀是磁控溅射镀膜的鼻祖,但二者均属于PVD真空镀膜 ,如您还想要了解更多相关知识,欢迎来电咨询:18018742966

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