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PVD真空镀膜基本概念
来源: | 发布日期:2022-03-23

真空涂层技术起步时间并不长,上世纪七十年代末开始出现PVD真空镀膜技术,之后的二三十年间PVD真空镀膜技术得到迅猛发展。今天小编与大家一起了解一下 PVD真空镀膜的一些基本概念。

首先什么是PVD,PVD即物理气相沉积,是指在真空条件下用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。分为真空蒸发镀膜、真空离子镀膜、真空溅射镀膜。我们通常所说的PVD真空镀膜技术指的就是真空离子镀膜和真空溅射镀膜。

PVD真空镀膜

其次,真空的概念。真空并不是完全没有空气的空间,而是空气及其稀薄的空间,是指定空间内低于一个大气压的气体状态,用气压来表示空气的稀密程度。PVD真空镀膜过程需要抽真空,真空度是pvd真空镀膜时务必严格管理的指标值之一,它对膜层的颜色、耐磨性能、附着力有着非常重要的影响。

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