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森丰小编告诉你真空镀膜加工的常用方法
来源: | 发布日期:2021-06-17

森丰小编告诉你真空镀膜加工的常用方法,真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料, 使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。

森丰小编告诉你真空镀膜加工的常用方法

(1)真空蒸镀:将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室,抽空后将膜料加热到高温,使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面,凝结而成薄膜。

(2)阴极溅射镀:将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,便激发辉光放电,带正电的氩离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

(3)化学气相沉积:通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物,获得沉积薄膜的过程。

(4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。

森丰真空镀膜加工公司创立于1998年,是一家面向全球的真空镀膜加工企业。公司镀膜加工业务涉及钟表、珠宝、手机、飞机零配件、工模具等领域,在装饰膜、功能膜、光学膜的真空镀膜上有着强大的工艺技术和丰富的生产经验。

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