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什么是溅射镀膜?
来源: | 发布日期:2022-09-12

溅射镀膜 是指利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基板材料表面的技术。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜材料的原材料,称为溅射靶材。

溅射镀膜

一般来说,溅射靶材主要由靶坯、背板(或背管)等部分构成,其中,靶坯是高速离子束流轰击的目标材料,属于溅射靶材的核心部分,在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成薄膜材料;由于溅射靶材需要安装在专用的设备内完成溅射过程,设备内部为高电压、高真空的工作环境,多数靶坯的材质较软或者高脆性,不适合直接安装在设备内使用,因此,需与背板(或背管)绑定, 背板(或背管)主要起到固定溅射靶材的作用,且具备良好的导电、导热性能。

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