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真空镀膜的特点
来源: | 发布日期:2022-05-10

真空镀膜 是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。

真空镀膜

真空镀膜 技术与湿式镀膜技术相比较,具有下列优点:薄膜和基体选材广泛,薄膜厚度可进行控制,以制备具有各种不同功能的功能性薄膜;在真空条件下制备薄膜,环境清洁,薄膜不易受到污染,因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。;薄膜与基体结合强度好,薄膜牢固;干式镀膜既不产生废液,也无环境污染。

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