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真空镀膜和光学镀膜的差别
来源: | 发布日期:2021-11-09

真空镀膜和光学镀膜的差别?

真空镀膜

真空镀膜关键利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子碰撞溅射靶材(target)表面, 溅射靶材的分子被弹出来而沉积在基材表面产生薄膜。溅镀薄膜的特性、匀称度都比蒸镀薄膜来的好,可是镀膜速率却比蒸镀慢许多。

新型的溅镀设备基本上都应用磁铁硼磁铁将电子成螺旋形运动以加快溅射靶材周边的氩气离子化, 导致靶与氩气离子间的碰撞概率提升,提升溅镀速度。一般金属材料镀膜大多数选用直流电溅镀,而不导电性的陶瓷原材料则应用RF交流溅镀,基本上的原理是在运行中利用辉光放电。

真空镀膜

光学镀膜

不论是无机材料或是有机材料做成的眼镜镜片,在日常的应用中,因为与尘土或沙砾(氧化硅)的磨擦都会导致眼镜片损坏,在镜片表面造成划痕。与玻璃镜片对比,有机材料做成的硬性度较为低,更易造成划痕。根据光学显微镜,我们可以观察到眼镜片表面的划痕主要有二种,一是因为沙砾造成的划痕,浅而细微,戴镜者不易发觉;另一种是由较大沙砾造成的划痕,深且附近不光滑,处在核心地区则会危害眼睛视力。

真空镀膜和光学镀膜差别。

1.真空镀膜:一般TiN,CrN,TiC,ZrN,电镀工艺出现的薄厚大约是3~5μm。一般状况真空镀膜的薄厚是在机器设备上检测不出来;

2.电子光学镀膜的膜厚检测可以在镀膜机的中间顶部装置膜厚测试仪就可以。

最早的是光控检测,如今一般用晶控(晶振片)应用的是晶振电路片振动的頻率来测试镀膜的薄厚。不一样膜层的厚度不一样。


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