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真空镀膜加工工艺中各因素对膜层沉积的影响有多大?
来源: | 发布日期:2022-11-25

真空镀膜加工 工艺中各因素对膜层沉积的影响有多大?现在就由森丰小编给各位讲解下吧!

靶功率:磁控溅射本身粒子初始动能比较小,离化率低,电源功率越大,溅射出的粒子的初始能量越大,靶材溅射量也越大,沉积速率越快,膜层容易厚度和硬度,同时工件温升也大,过高的功率会使沉积速率太快,粒子来不及表面迁移和扩散,易形成阴影效应,膜层会比较疏松,应力较大。

真空镀膜加工

弧靶电流:弧靶电流越大,靶材蒸发量越大,靶面温度越高,冷却效果越差,弧靶产生的液滴大颗粒越多,膜层外观越差,膜层中的缺陷越多

真空度:真空度是指处于真空状态下气体的稀薄程度,用压强表示,压强越低,其稀薄程度越大,真空度越高。镀膜过程中,真空度主要通过控制氩气流量来改变。氩气越少,靶材溅射量越少,但真空度越高,气体分子自由程度越大,散射越少,粒子碰撞几率越小,粒子迁移过程中损失的动量越少,沉积速率越大

烘烤温度:真空室抽气时烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空气和水气,这是保证膜色调纯正的重要因素之一。

镀膜时间:膜层厚度随镀膜时间的增加而增加,但不是线形增加,当厚度达到一定的时候,增加速度会变慢最后基本停止,而且镀膜时间越长膜层应力越大,外观越差,甚至有可能会崩膜。

以上几点都是会直接影响到膜层沉积的因素,如您还想了解真空镀膜加工 相关的知识,欢迎致电森丰:18018742966

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