真空镀膜的原理是在真空状态下加热蒸发容器中的靶材，使其原子或分子逸出，沉积在目标物体表面，形成固态薄膜。依蒸镀材料、基板的种类可分为：抵抗加热、电子束、高周波诱导、雷射等加热方式。蒸镀材料有金、镍、银、铝、亚铅、白金、镍等金属材料与可产生光学特性薄膜的材料，主要有使用SiO2、ZrO2、MgF2、TiO2等氧化物与氟化物。蒸镀除金属外，树脂与玻璃也可以使用、近年来连纸也变成可蒸镀。

真空镀膜 形式是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术最先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等，如手表外壳镀仿金色，塑胶的金属感，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。真空镀膜有三种形式，即和离子镀、蒸发镀膜、溅射。