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真空离子镀金技术的介绍
来源: | 发布日期:2022-03-26
  随着科学技术的不断进步,人的需求也越来越多,真空镀膜技术也在不断进步,许多工艺也有了新的突破。接下来给大家介绍其中一种真空离子镀金技术
真空离子镀金技术
  真空离子镀金技术是PVD技术的一种,是指在真空条件下将材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。采用该技术可以镀真金或仿金。大多数真金采用金靶磁控溅射技术,而仿金采用反应溅射或真空离子镀沉积TiN TiCN ZrN ZrCN等涂层技术。与其他镀金技术相比,真空离子镀金具有薄膜与工件表面的结合力更好、硬度更高、耐磨性和耐腐蚀性更好、性能更稳定、无有毒或污染物等优点。
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