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真空蒸发镀膜的基本工艺流程和特点有哪些呢?
来源: | 发布日期:2022-02-26

真空镀膜主要有三种,磁控溅射镀膜、离子镀和真空蒸发镀膜,下面小编为大家介绍下真空蒸发镀膜的基本工艺流程和特点有哪些?

真空蒸发镀膜的基本工艺流程:

镀前准备→抽真空→离子轰击→烘烤→预熔→蒸发→取件→膜层表面处理→成品

真空蒸发镀膜

真空蒸发镀膜的特点:

优点:设备简单易操作,制成的薄膜纯度高、质量好,厚度可较准确控制,成膜速率快,效率高,薄膜生长机理比较简单。

缺点:所形成的薄膜在基材上附着力较小,工艺重复性不够好,不易获得结晶结构的薄膜。

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【本文标签】 磁控溅射镀膜 离子镀 真空蒸发镀膜

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