所谓的磁控溅射镀膜 阴阳面其实就是正对靶材和背对靶材导致的膜厚有公差的情况。那到底有多大公差呢？今天就来说说影响因素和对策。

磁控溅射镀膜的膜厚公差是受装载的疏密及产品的结构造成的，有客户说，我家的产品要求严格，不允许有公差，但磁控溅射镀膜膜厚有公差不可避免，要减少膜厚公差最直接的办法就是减少装载量，成本也会有所影响，要提前告知客户，并提供不同的装载量产品对比，让客户心中有数。还有一种降低测控溅射镀膜公差的方法就是在公自转的基础上实现产品的自转，这对设备和工程的要求极高，一般企业很难配置如此精密的设备，除非客户有固定长期的订单承诺。当然如果选择真空离子蒸发镀，膜层厚度的公差会小一些，但性能测试的结果相对来说弱一些。

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