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磁控溅射镀膜与等离子体化学气相沉积镀膜的区别?
来源: | 发布日期:2022-08-01

磁控溅射镀膜 膜层一般为蒸发镀膜、溅射镀膜、喷涂镀膜、电离镀膜等方法。

溅射镀膜过程中,在靶与基体之间形成了含有离子、电子、中性原子团组成的对外显中性的气体,这就是等离子体。

溅射镀膜过程分为物理气象沉积、化学气象沉积、物理/化学气象沉积他们都是在等离子体中形成的。

磁控溅射镀膜

物理气象沉积,是等离子体中的正离子轰击靶表面轰击来的分子/原子溅射到基体表面,飞行过程中并为发生任何反应。

化学气象沉积,是等离子体中的正离子轰击靶表面轰出来的分子/原子溅射到基体表面,飞行过程中发生了化学反应。

不过一般的磁控溅射镀膜 都是物理、化学气象沉积的共同结果。

【本文标签】 磁控溅射镀膜

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