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你知道PVD真空镀膜膜层均匀性的种类吗?
来源: | 发布日期:2022-07-18

PVD真空镀膜 由于原理的不同分为很多种类,其过程也非常复杂,但因为有一个共同点——都需要高真空度,而拥有统一名称。所以不同的工艺原理,影响均匀性的因素也不尽相同。且均匀性本身也会随着镀膜尺度和镀膜成分不同而不同。薄膜均匀性可简单分为以下几类:

厚度上的均匀性:也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜完全不影响原材质的性能。但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在。

PVD真空镀膜

化学组成上的均匀性:就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程没有严格按照正确的比例,那么实际表面的组分就并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,因此镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。

晶格有序度的均匀性:这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题。

以上是PVD真空镀膜 的均匀性分类概述,如您还有其他分类的均匀性问题,欢迎致电讨论:18018742966。

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