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PVD真空镀膜技术的发展史
来源: | 发布日期:2022-07-15

现如今,产品进行PVD真空镀膜已经盛行,那么你知道PVD真空镀膜技术 的发展历程吗?

PVD(即物理气相沉积)技术在二十世纪七十年代末,主要应用在提高机械力学性能的硬质膜方面,制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。起初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国工具制造业的高度重视,人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时,也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。PVD工艺对环境不产生污染,符合现代绿色制造的发展方向。

PVD真空镀膜技术

离子真空镀膜技术也是属于PVD真空镀膜技术的一种,其特点和用途如下:

金属在特定环境下(压力,温度,电磁场等)与各种气体(氩气,氮气,氧气及乙炔气等)产生综合作用形成等离子体,经过加速后,等离子体电磁场溅射到被镀工件表面,形成牢固的膜层。该膜层细密均匀,结合力强,硬度高,防腐耐磨,具有良好的导电性和自润滑性能,同时色泽丰富多样,因此真空镀膜不仅是提高材料使用性能的有力手段,在装饰上同样是提升档次,提高附加值的最佳选择。

PVD真空镀膜技术 在现今已经是不可或缺的一种提升产品性价比的加工方式,欢迎您致电森丰咨询:18018742966。

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