现如今产品镀膜已经成为了潮流，给产品镀膜的方法也是众多，如：化学浸镀、电镀、喷涂导电涂料、真空蒸镀、阴极溅镀、离子镀、烫金、熔化喷涂等，其中PVD真空电镀是我今天要说的重点了。

PVD真空电镀：是在高度真空条件下加热金属熔化蒸发，冷却后在被镀产品表面形成金属膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。

加热金属的方法：使用电阻产生的热能和电子束。在蒸发产品时，必须调整蒸发时间，以确保金属冷却过程中释放的热量不会使产品本身变形。此外，熔点和沸点过高的金属或合金不适合蒸发镀。在真空室镀金属制品，采用一定的方法加热镀材料，使金属蒸发或升华，冷产品表面的金属蒸汽凝结成金属薄膜。在真空条件下，可以减少蒸发材料的原子和分子在飞向产品的过程中与其他分子产生碰撞，减少气体中活性分子与蒸发源材料之间的化学反应（如氧化），从而提供薄膜的密度、纯度、沉积速率和附着力。

PVD真空电镀硬性要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源、被镀产品和薄膜质量要求较高的场合，压力较低(10-5Pa)。涂层厚度一般在0.04-0.1um,若低于0.04um则太薄，反射率低；高于0.1um则太厚，附着力差，容易脱落。

以上就是PVD真空电镀，如想了解工艺中更多的细节及注意事项，欢迎致电18018743855