无论采用什么样的方式真空镀膜 ，其均匀度都会受到某些因素的影响。今天我们就来聊聊磁控溅射镀膜，造成膜层不均匀的原因。磁控溅射镀膜的原理是在真空状态下，正交磁场使电子轰击氩气，构成氩离子再轰击靶材，靶材离子堆积于产品表面，形成膜层，那么影响膜层不均匀的就有真空度、磁场和氩气。

真空度需要抽气系统来完成，每个抽气口都要一起发力，这样就能撑控抽气的均匀性，炉体内的真空度也就很好控制；真空炉体内是一个强有力的磁场，虽说磁场强度不可以做到百分之分均匀，但产品在炉体内均速公转、自转，所以膜层也还是很均匀的；氩气的均匀性对会膜层也有一定的影响，原理和真空度差不多，因为氩气的加入，真空室内压强会发生改变。尽管总有一些因素影响膜层的均匀性，但只要熟练操作真空镀机，控制好各项参数，真空镀膜的均匀性还是很容易控制的。

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